日本HORIBA堀場數(shù)字式液體質(zhì)量流量計LF/LV介紹
隨著半導體器件快速一體化的發(fā)展,半導體產(chǎn)業(yè)對高精度流量控制設備的需求日益增長,細節(jié)處理以及新材料的引入變得愈加重要。在這種背景下,HORIBA STEC作為液體質(zhì)量流量計領域的重要供應商,推出了多種產(chǎn)品,以應對復雜的制程需求。本文將介紹其中的兩個重要型號——LF-F和LV-F。
一、日本HORIBA堀場數(shù)字式液體質(zhì)量流量計LF/LV介紹
數(shù)字式液體質(zhì)量流量計LF-F通過冷卻測試方式,可精確檢測低沸點和高粘度液體的流量。這款設備特別適用于要求高潔凈度的半導體制造環(huán)境,內(nèi)部經(jīng)過超潔凈處理,并符合RoHS環(huán)境標準。其能夠提供超低微小流量檢測,抗壓性達到10MPa,適應半導體生產(chǎn)中各種嚴苛的操作條件。同時,該設備通過高效、穩(wěn)定的液體傳輸,有效減少了操作員的手動干預,降低了生產(chǎn)過程中可能的污染風險。
相似的,數(shù)字式液體質(zhì)量流量計LV-F作為另一重要產(chǎn)品,同樣采用了冷卻測試方式,但其側(cè)重于精準流量控制。LV-F能夠精確控制低沸點和高粘度的液體流量,依托其超潔凈的內(nèi)部處理和符合RoHS環(huán)境標準的設計,確保在復雜的半導體制程中保持高效運轉(zhuǎn)。該設備具備的1MPa抗壓性,更適合用于中小流量控制需求的場景。通過自動供液系統(tǒng),該設備同樣可實現(xiàn)不間斷的液體傳輸,進一步提升了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品良品率。
這些數(shù)字式液體質(zhì)量流量計的引入,不僅僅是一種技術提升,更意味著對生產(chǎn)工藝精度和效率的高度重視。先進的液體源汽化控制系統(tǒng)通過不同的注入方式,如直接注入、混合注入等,確保了氣體的平穩(wěn)有效傳輸。這些技術手段的綜合應用,使得半導體生產(chǎn)在效率、精度和安全性方面都得到了顯著提升,從而滿足了日益復雜的生產(chǎn)需求。
總的來看,HORIBA堀場的數(shù)字式液體質(zhì)量流量計LF-F和LV-F憑借其精準的流量測控功能和高潔凈度處理技術,為半導體制造提供了可靠的解決方案。這不僅優(yōu)化了生產(chǎn)流程,還顯著提高了產(chǎn)品的質(zhì)量和一致性,推動了行業(yè)的進一步發(fā)展。這種技術上的精益求精,也為未來半導體領域的持續(xù)創(chuàng)新奠定了堅實基礎。
二、上海進佳科學儀器有限公司介紹
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三、上海進佳科學儀器有限公司優(yōu)勢
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